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手机壳;高尔夫球头氮化铝钛膜TA-C碳膜
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公司成立于2002年9月,公司坐落上海青浦区的科技创业中心,有自己的 加工出产基地.它是由新加坡纳峰科技私家有限公司全额出资的子公司.
本公司选用新加坡母公司的最新FCVA专利技能及设备,为广阔制**供应商供给工艺先进的真空镀膜效劳.
FCVA专利技能,全称"过滤阴极真空电弧镀膜技能".它经过离子束刻预清 洗,穿插电磁场过滤,堆积构成非晶态四面体碳钻石薄膜或其它金属膜、氧化膜。因而 使被镀物的寿数质量有大幅度的进步。
FCVA真空镀膜技能运用于金属、陶瓷、玻璃等材料表面的镀膜处理。可广泛 运用于半导体芯片的制作与IC封装;加工塑料、塑料注塑模具(手机注塑等);PCB板材、铝材、铜材的钻头、铣刀、 滚刀等**的维护镀膜;高精密模具的镀膜(五金冲压模具);粉末冶金冲压模具;塑料压铸模的增硬镀膜;IT硬盘磁头及 介质膜的镀膜等。它使产品质量进步,制作本钱下降,东西运用寿数大大延伸。运用领 域非常广泛!!
TAC(类金刚石膜层硬度达92HRC、摩擦系数为0.08、光洁度非常好!
咱们的主旨:推行咱们的FCVA技能,替客户节省本钱! 技能介绍—FCVA 电弧蒸腾堆积法(Arc-evaporation deposition)首要运用于为机械加工东西供给耐磨涂层。可是,镀膜进程中会发生很多的微观粒子,膜层的质量得不到确保。为了处理这个问题,纳峰科技私家有限公司立异了FCVA镀膜技能。选用咱们的专利技能能够出产出高质量的非晶四面体碳(ta-C)膜以及在较为苛刻的条件下作业的膜层,例如金属、金属氧化物等其他硬质膜层。在阴极真空电弧镀膜进程中,阴极电弧会发射出等离子束(参杂了微观颗粒和中性原子)。电磁过滤弯管担任滤除那些不必要的微观颗粒和中性原子,只要那些具有必定能量的离子能够抵达基片。这个特别的技能能够发生硬度更高,密度更大,更纯洁的薄膜。用FCVA办法镀出的薄膜:与基片结合力更高且具有杰出的光学、化学、电子和机械性能;而且重复性好,彻底满意各种实践出产要求。 除此之外,在镀膜进程中,基片的表面温度一般能够保持在70°C以下。因而,能够对塑料或橡胶进行FCVA镀膜。与传统办法(比方:化学汽相堆积法,物理汽相堆积法)不同,FCVA技能发生能量安稳的电弧和100%纯离子束流,能量能够依据不同的要求准确操控。经过这项科技咱们能够出产共同的ta-C膜,并可发生高品质的Al2O3膜和金属膜。 纳峰真空镀膜(上海)有限公司是镀膜、Ta-c、Tin、ALTin、cr-n、MICC等产品专业出产加工的外资厂商,公司总部设在上海市青浦区华纺路99弄99号,纳峰真空镀膜(上海)有限公司具有完好、科学的质量管理体系。纳峰真空镀膜(上海)有限公司的诚信、实力和产品质量取得业界的认可。欢迎各界朋友莅临纳峰真空镀膜(上海)有限公司观赏、辅导和事务洽谈.
TA-C非晶态四面体碳膜
顏色黑色
硬度HV3000 - 5000
膜厚1.5um
摩擦系数0.1
制程温度80 ºC
耐氧化温度300 ºC
运用场合削减摩擦系数、脱模性佳,超高硬度,高耐磨性
运用工业注塑模具、IC、东西导线架模具、**、导杆、陶瓷膜、冲压模、光学成型模具、粉末冶金模具、CDR模...等.
氮化铝钛膜(ALTiN)
色彩 : 灰黑色
硬度 HV: 3000-3500
膜厚: 1-5um
摩擦系数: 0.4
制程温度: 450 ºc
耐氧化温度: 850 - 1000 ºC
运用场合: 抗磨耗、耐酸(氧)化
运用工业:
铝压铸模、玻璃成型模、 高速干式切削用**、 螺丝用冲模具 ...等。
氮化钛膜TiN:
色彩金**
硬度HV2200
膜厚1-4um
摩擦系数0.4
制程温度450 ºC
耐氧化温度600 ºC
运用场合抗磨耗
运用工业塑料模、切削**、铣刀、钻头、丝攻、螺丝帽、用模具冲具、生医零件、CDR模仁 ...等。
氮化铬膜CrN
色彩银白色
硬度HV1700
膜厚3-6um
摩擦系数0.3
制程温度300-450 ºC
耐氧化温度800 ºC
运用场合耐氧化...

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