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钛靶 溅射靶材 99.995% 镍钛合金钛钒合
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钛含量≥ | 99.995% | 品名 | 钛 |
产地 | 我国 | 牌号 | TA1 |
分量 | 依据尺度来定kg/块 |
其他规格 | 默许规格 |
产品名
钛靶
元素符号
Ti
纯度
2N7, 4N, 4N5, 5N
形状
平面靶, 旋转靶
工艺
阐明
长沙鑫康可出产各种形状的高纯钛靶,其主要应用于半导体和微电子职业,获益于一些特别的加工手法,咱们的钛靶具有高密度,高纯度的性质,且晶粒大小均匀共同。
金相检测
咱们出产过程的灵活性使咱们能恰当调整靶材的微观结构来到达你想要的作用,假如溅射靶材的晶粒大小均匀共同,用户可以取得杰出的溅射速率和均匀镀膜层。下图是钛溅射靶材的两种典型的显微金相检测图片,均匀粒径<50um。
成分分析咱们出产高纯度的溅射靶材,它最重要的优点是在物理气相堆积的过程中,能取得具有优异的导电率和颗粒最小化的薄膜。以下表格是4N5高纯钛溅射靶的成分分析证明书。
分析办法:
1,运用GDMS或ICP-OES对金属元素进行分析;
2,运用LECO进行气体元素分析。
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